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匀胶显影设备(ArF Clean Track System)
上海集成电路研发中心有限公司
Tokyo Electron Ltd.，AT8
上海市
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检测范围

应用在8英寸大规模集成电路光刻涂胶工艺。主要应用在光刻胶的涂布，抗反射涂层的涂布，光刻胶的显影，光刻胶的烘焙。

仪器参数

测试项目测试条件验收规格测试方式涂胶模块马达转速10~6000rpm+/-1rpm.设备自带功能进行测试显影模块马达转速10~5000rpm+/-1rpm.硅片预处理温度控制（ADH）50.0-120.0 CR
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