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暗场缺陷检查设备(defect inspection(dark field))
上海集成电路研发中心有限公司
KLA-Tencor，Puma9150
上海市
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检测范围

用于45纳米工艺缺陷扫描

仪器参数

1. 低角度散射信号收集,从而更好的抑制前层噪音,提高信噪比.2. 同时具有微粒缺陷和图形缺陷的检测能力,且两者最小检测缺陷必须达到0.2微米3. 在达到基本检测灵敏度情况下,吞吐量要达到20片每小时.
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