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原子层沉积设备(无)
上海大学
BENEQ OY，TFS200ALD
上海市
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检测范围

一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。

仪器参数

质量流量控制器，2个；压力调节器，2个；用于？最大为200mm x 200mm基底的反应腔，与传片装置兼容；3路液态源；2路加热源 HS 300，最高温度到300°C；臭氧发生器；最高工艺温度：300；薄膜均匀性
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