等离子体强型化学气象沉积系统等离子淀积台(无)
上海大学
ULVAC,INC.,NO.CME-200E
上海市
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检测范围

用于TFT器件绝缘层、有源层薄膜(如氧化硅、氮化硅、非晶硅)的制备

仪器参数

玻璃基板尺寸:200*200mm,主要工艺气体:SiH4、N2O、NH3、H2、N2等
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