磁控溅射台(无)
上海大学
美国Kurt J.Lesker,PVD75
上海市
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检测范围

主要应用于:金属、半导体及介质层直流/交流磁控溅射

仪器参数

?2个射频源,1个直流源,基片加热温度最高350度
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