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薄膜表征系统(Thin Film Characterization System)
上海师范大学
*，NKD-8000W
上海市
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检测范围

可测定多层薄膜和基片的折射率、吸收系数和厚度，可全自动、可同时测定透过光谱和反射光谱，入射光角度可从0°到90°连续改变。

仪器参数

光谱分辨率:1nm或2nm （可选）;光源:150W 氙弧灯;样品尺寸:10×10mm到200×250mm;层数:至多5层，两个未知参数;薄膜厚度范围:1nm到25um，取决于角度、偏振和波长
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