检测范围
TRION TECHNOLOGY SIRUS T2反应离子刻蚀机是一套桌面式等离子刻蚀系统，可用于介质以及其他要求氟基化学的薄膜刻蚀。SIRUS T2的内部程序中已经制定了蚀刻硅，二氧化硅，氮化硅，石英，聚酰亚胺， 钽，钨，钛钨和其他材料所需要的基本控制，具有良好的选择性和刻蚀均匀性。
仪器参数
?刻蚀基片规格：>200mm（8英寸）
?反应电极规格：8英寸
?反应腔体材料：SUS304不锈钢
?反应室材料：镍合金
?自动调谐射频发生器频率：13.56MHZ，功率600瓦
?反应离子气体刻蚀均匀度：
仪器特色&服务特色
已经为厦门十多家IC企业服务过
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