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ICP刻蚀机-Cl(Is improving)
清华大学
爱发科，NE-550H(Cl)
北京市
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ICP刻蚀机-F

检测范围

自动化操作，刻蚀机刻蚀方式：ICP模式；刻蚀精度：0.35微米；主要刻蚀介质：Al、TiN、Ti、HfO、W等金属及化合物材料。刻蚀尺寸：6英寸、4英寸。均匀性小于5%。

仪器参数

金属及化合物刻蚀：ICP模式；刻蚀精度：0.35微米

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