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化学气相沉积系统(Is improving)
清华大学
TRION，PHANTOMIII
北京市
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检测范围

此设备在100～400℃下淀积SiOx、SiNx、SiOxNy、ɑ-Si、SiCx 高低应力SiNx薄膜。反应气体主要是元素的氢化物。

仪器参数

等离子增强型化学气相淀积；工艺温度100～400℃

仪器特色&服务特色

吴华强 微电子所；许军 微电子所；陈炜 微电子所；钱鹤 微电子所；刘泽文 微电子所；岳瑞峰 微电子所；         王喆垚 微电子所；蔡坚 微电子所；邓宁 微电子所；伍晓明 微电子所； 张志勇 北京大学
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