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磁控溅射镀膜机(Is improving)
清华大学
创世威纳科技公司，MSP-3200T
北京市
我们目前尚未与清华大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

检测范围

主要用于溅射各类金属和氧化物薄膜；本设备有两个相互独立的腔室，可分别用于溅射金属和非金属类薄膜，每个腔室可以放置三块不同的靶材；样品尺寸：4寸及以下整片或碎片目前可溅射的材料如下：Al、Cu、Ti、SiO2

仪器参数

目前可溅射的材料如下：Al、Cu、Ti、SiO2

仪器特色&服务特色

王喆垚(微电子所)、陈兢(北京大学)、何立平(中科院物理所)、严清峰(化学系)、许军(微电子所)、尤政(精仪系)
朱荣(精仪系)、张志勇(北京大学)、金传洪(浙江大学)
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