检测范围
该设备的特点如下：本底真空可达到10E-8Torr量级；基片温度可以控制在室温~550℃；可对基片进行等离子体清洗；可实现6英寸及以下尺寸的硅片的溅射镀膜；溅射镀膜的粘附性好，片内均匀性能够达到5%以下；可对多种材料进行溅射，目前主要有金属、氧化物和氮化物薄膜，包括Pt、T
仪器参数
金属及氧化物材料磁控溅射：包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、V2O5、TiN、W等；本底真空：10E-8Torr
仪器特色&服务特色
钱鹤研究员，吴华强研究员，伍晓明研究员，王敬研究员，陈炜研究员等。
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