原子层沉积系统(Is improving)
清华大学
BENEQ,TFS200-106
北京市
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检测范围

制备氧化物,如氧化铪、氧化铝、氧化钛、氧化钽等,制备氮化物,如氮化钛、氮化钽等,精确到0.1纳米。

仪器参数

原子层淀积,功率4kW,载气:N2;生长精度:0.1nm,反应温度:25~500C,样品尺寸:20-200mm,生长方式:热沉积/等离子体生长;热源2个,温度25~300C;冷源3个。

仪器特色&服务特色

北京大学电子系物理电子学研究所,香港中文大学,清华大学化学系,清华大学物理系纳米中心,清华大学微电子学研究所
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