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双面光刻机(Is improving)
清华大学
Karl Suss，MA6
北京市
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检测范围

本设备可进行双面对准和曝光，双面对准精度2微米，可对30um以下厚胶曝光。硅片尺寸为5英寸、4英寸、3英寸。另外可以进行SU-8等厚胶光刻。

仪器参数

对准精度2微米

仪器特色&服务特色

北京大学、中科院电子所
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