检测范围
有一些材料不容易找到合适的气体进行反应离子刻蚀，会采用离子束刻蚀的方法来进行刻蚀。首先把Ar气充入离子源放电室，利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子，然后由栅极将离子呈束状引出并加速，具有一定能量的离子束进入工艺腔室，射向样品表面轰击样品表面原子，使材料原子
仪器参数
极限真空1.2E-4Pa样品尺寸最大4英寸样片4英寸样片范围内均匀性小于5%样品台自转10RPM工艺气体Ar工艺压力6.0E-2 Pa样品台冷却温度可达5℃样品台倾斜角度：0-90°离子源直径11CM离子源加速电压可达200V束流50mA至200mA
仪器特色&服务特色
目前已有清华大学化学系、物理系、材料系、环境系、核研院、航院、精仪系、机械系、微电子所、医学院、工物系、热能系、力学系、建筑系、水利系、土木系、电机系、基础工业训练中心等二十余个院系近百个课题组利用制备平台开展微纳米结构的制备，同时制备平台也为周边乃至全国的纳米科技研究开展了服务，如向北京大学、中科院国家纳米中心、北航，北理工，中科院物理所、北科大、北化工、北林大、地质大学、成都电子科技大学、上海交通大学、同济大学等多个课题组开展微纳结构的制备。
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