检测范围
可以进行单次曝光，单面套刻，双面套刻。
仪器参数
EVG620掩模对准曝光机衬底尺寸：2" - 6"衬底、碎片（单片）掩模版尺寸：最大7"对准精度：光刻对准：顶部对准0.5um? ? ? ? ?底部对准1um键合对准：玻璃/硅0.5um? ? ? ? ?硅/硅1.0um曝光精度：1um曝光模式：软接触、硬接触、真空接触、接近式曝光曝光参数：350nm-450nm波长汞灯功率：350W-450W光强均匀性：4"<2% ?6"<2%用于光刻键合对准
仪器特色&服务特色
校内用户：清华大学化学系、物理系、材料系、环境系、核研院、航院、精仪系、机械系、微电子所、电子系、医学院、工物系、热能系、力学系、建筑系、水利系、土木系、电机系、基础工业训练中心等二十余个院系。校外用户：北京大学、中科院国家纳米中心、半导体所、北航，北理工，中科院物理所、北科大、北化工、北林大、地质大学、成都电子科技大学、上海交通大学、同济大学等多个课题组
分享
