我的订单 会员中心 常见问题 意见反馈 服务商入口

提交需求
首页 > 所有仪器> 其他通用分析仪器 > 金属有机化学物气相沉积系统
联系平台客服
分享
金属有机化学物气相沉积系统(Metal organic Chemical Vapor Deposition)
吉林大学
德国 AIXTRON Ltd，CCS3X2FT , *
吉林省
我们目前尚未与吉林大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

检测范围

样品生长过程中，EpiCurve?TT原位监测系统可以检测薄膜的生长模式及其生长速率。研究领域：该套设备用于外延生长GaN，AlN，InN及其合金化合物半导体单晶薄膜材料及器件。

仪器参数

1. 最高生长温度：1300摄氏度2. 生长压力：100~600毫巴3. 托盘最大转速：300转/分钟4. 最大载气流量：20升/分钟
猜您需要 查看更多>>
如果找不到合适的仪器，您可以提交您的需求，由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求