高真空磁控溅射系统
华南理工大学
中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司,JGP-560b,*
广东省
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所有仪器

测量/计量仪器

检测范围

制备各种薄膜材料

仪器参数

溅射极限真空≤5E-6Pa;系统漏率:5E-7Pa.l/S

仪器特色&服务特色

发表多篇SCI论文,如:Growth of β-FeSi2 thin film
on textured silicon substrate
for solar cell application
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