仪器参数
玻璃基片尺寸：200mm×200mm.用高质量材料制造设备，厂家对关键部件使用的材料等级进行说明。利用传递装置，能够准确的在基片装载腔室（预处理腔室）和溅射镀膜腔室之间往返传递基片；有适当尺寸的观察窗，便于观察操作过程。基板温度要求能够控制在室温至350℃之间任何温度，控温精度为±5℃，基板温度均匀性达到±10℃.具有过热保护装置（硬件或者软件锁）。极限真空优于2×10-5pa。15分钟内能够从常压抽到真空度不低于1×10-4pa；腔室气体泄漏速率小于7×10-6pa/秒。系统控制软件可对整个设备进行监控
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