我的订单 会员中心 常见问题 意见反馈 服务商入口

提交需求
首页 > 所有仪器> 电子工艺实验设备 > 干法刻蚀机
联系平台客服
分享
干法刻蚀机
华南理工大学
ULVAC.INC.，* *
广东省
我们目前尚未与华南理工大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

仪器参数

刻蚀过程整个刻蚀过程基板温度不能超过500℃，当刻蚀进行时，能够实时监测基板温度。Al膜刻蚀速率：≥80nm/min,不均匀性：≤15%;Mo膜刻蚀速率：≥50 nm/min,不均匀性：≤15%;SiNx刻蚀速率：≥300nm/min,不均匀性：≤10 %;SiO2刻蚀速率：≥150nm/min;不均匀性：≤10%;Al2O3刻蚀速率：≥80nm/min,不均匀性：≤10 %
更多仪器 查看更多>>
如果找不到合适的仪器，您可以提交您的需求，由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求