磁控与离子束复合溅射沉积系统
中北大学
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司,FJL-560a
山西省
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检测范围

可用于开发纳米级的单层/多层功能膜—各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等。镀膜方式有直流直位、射频直位溅射镀膜,多靶位直流共溅镀膜,以及离子束沉积镀膜。

仪器参数

极限真空度:≤6.67x10-6Pa (经烘烤除气后);
系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S;
系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.6x10-4Pa;
停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa
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