光刻机
中北大学
EVG,EVG-610TB
山西省
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检测范围

功能:用于微结构的光刻工艺,键合前的对位。

仪器参数

1双面对准
正面对准精度:1.0um;0.5um (R&D)
基片找平方式:自动找平
2可后续升级用于键合机之键合对位对准,并与对应之键合夹具兼容
3. 分辨率:0.8微米(真空接触)
4. UV光源:350W或以上汞灯,恒光强、恒功率控制
5. 曝光光路:350-450nm波长曝光
6. 顶部对准显微镜
7.双视场光学显微镜
8.配备一套5X,10X物镜,其中5X物镜上、下对位可以通用
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