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脉冲激光沉积系统(PLD)
重庆大学
大连齐维科技发展有限公司，三腔体/10E-8Pa/
重庆市
我们目前尚未与重庆大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

检测范围

利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段

仪器参数

真空腔室：*极限真空优于10-8Pa；直径不小于300mm；
基片尺寸2英寸；加热温度800摄氏度以上；
激光能量大于700mJ;
成膜不均匀性≤±5%，重复性优于±3%

仪器特色&服务特色

无（仪器在试运行阶段）
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