高真空磁控溅射镀膜机
重庆大学
成都同创材料表面新技术工程中心,CDTC-MIP-490
重庆市
我们目前尚未与重庆大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求,委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试,我们将为您提供以下保障:

检测范围

任何需要大尺寸、精确计量手段的行业和研究课题组,如①机器人校准、大型工装夹具;②机床精度检测、零件检测以及逆向工程等。主要用于科研项目,也可根据需要服务教学。

仪器参数

1.真空系统: 抽到极限真空后,关机12小时,腔室真空度优于10Pa
2.阳极层离子源:放电电流0.2-5A,束斑有效区域大于400mm
3.磁控溅射靶: 400mm X 100 mm, 共计4套
4.工件转架:6工位设计,0-15转/分,直流叠加脉冲偏压电源,频率40kHz
5.加热系统:11根管式加热管,最大加热功率8kW,最高加热温度500度
6. 电源和控制系统采用控制柜集中控制方式,标准机柜,全手动控制

仪器特色&服务特色

支持科研项目2项,本科生SRTP和国创项目4项;指导本科生毕业设计7项,发表论文3篇。
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