软X射线干涉光刻（XIL）分支线站-测试100仪器共享平台

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软X射线干涉光刻（XIL）分支线站(Soft X-ray Interference Lithography (XIL) Beamline)
所在单位：	中国科学院上海应用物理研究所
品牌/型号：	集成，BL08U1B
所在地区：	上海市
仪器说明：	我们目前尚未与中国科学院上海应用物理研究所提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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光子能量范围：85-150eV ；样品处光通量：1×10^14phs/s/cm2/0.3A @ 92eV; 掩膜处光斑尺寸：>3×3mm^2(H×V);干涉条纹周期：100nm;单次曝光尺寸：0.4*0.4mm^2

金属周期纳米阵列对表面增强拉曼散射信号增强的影响、等

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