检测范围
SB-401B双面对准曝光机是半导体器件生产的专用设备。它广泛地应用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合集成电路、太阳能电池、微电子机械系统（MEMS）以及其它需要双面曝光的各种器件的双面对准和曝光。
仪器参数
上下掩膜对准行程范围：X向 ±4mm，Y向 ±4mm，θ向 ±7.5°；掩膜对基片对准行程范围：X向 ±4mm，Y向 ±4mm，θ向 ±5°； 掩膜对基片对准精度 ±4μm；机械手Z向行程：≤5mm；物镜分离距离：26~70mm；曝光面积：Ф110mm；曝光分辨率：5μm；曝光不均匀性：±5%（进口灯≤±3%）
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