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等离子体化学气相淀积系统(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System)
所在单位：	河北工业大学
品牌/型号：	北京创世威纳科技有限公司，PECVD-1202
所在地区：	天津市
仪器说明：	我们目前尚未与河北工业大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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本系统为计算机控制的双室PECVD系统，可制备SiO2、Si3N4、非晶硅、微晶硅等薄膜材料，两室间实现机械臂传输样品

反应室数量为双室，极限真空为2.0×10-5Pa（环境湿度≤55%），最大样品尺寸为φ300mm，淀积不均匀性为≤±5％（φ10吋范围内）≤±7％（φ12吋范围内）

为校内外师生提供测试服务

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