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等离子体化学沉积系统(PECVD)
北京理工大学
英国牛津公司，PLASMALAB SYSTEM 100
北京市
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制备SiO2，Si3N4，SiON，a-Si:H，Poly Si等，主要用于薄膜显示，光伏，传感，探测等光电子器件研究

仪器参数

氧化硅：沉积速率>40nm/min，片内厚度不均匀性5MV/cm
氮化硅：沉积速率>10nm/min，片内厚度不均匀性5MV/cm
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