检测范围
沉积各种硬质镀层、软质镀层、化合物膜以及固体润滑膜等,并可用于低温回火的零部件表面强化。
仪器参数
设备可随客户制程需要而做机动性之改变。 封闭场非平衡磁控源的磁控靶源系原装英国进口，非中国制造。 选用与英国完全相同的关键零组件（真空泵、电源、OEM成分控制）。 可加工薄膜厚度范围：1nm-10um，薄膜厚度加工精度：#177;5 本设备可作英国TEER公司沉积各种硬质镀层、软质镀层、化合物膜以及固体润滑膜等。 抽真空系统在45分钟内，达到真空度2#215;10－5mbar、工作真空度优于1#215;10－4mbar。
仪器特色&服务特色
不锈钢板镀膜
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