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多功能离子束磁控溅射
湖南大学
沈阳市科发，M1S800
湖南省
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X射线衍射仪

检测范围

磁控溅射镀膜，离子束溅射镀膜

仪器参数

真空室Φ800mm×H1000mm，配1套50kV中能离子源、两套Φ80cm溅射离子源、一套Φ60cm低能清洗离子源、两套三工位溅射转靶、两套Φ50cm磁控溅射靶、六工位自转/公转样品台（含两个水冷台、两个加热台、一个粉末台、一个偏压台）、极限真空度≤1×10-4Pa、漏率≤1×10-8Pa L/S、配循环水冷却系统。

仪器特色&服务特色

支撑国家级军工项目5项，国家自然科学基金青年基金项目1项，湖南省先进涂层中心1个。
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