检测范围
具有磁控溅射、重离子束、电子束、电阻蒸发复合镀膜功能。膜层均匀，镀膜质量佳。基片加热温度 、靶头与基片的距离、充入气体的流量、基片架的旋转速度、射频电源的输出功率均实现无级调整。 基片的装卡采用插板式，可在机外装卡基片，实现快速更换，减少热能损失和对
仪器参数
磁控溅射室：
极限真空：5×10-5Pa
工作真空度： 5×10-4Pa
溅射靶位：3靶位
基片每次装载数量：1片
基片加热温度：0~800℃
重离子束、电子束、电阻蒸发真空室：
极限真空度：5×10-5Pa
工作真空度：5×10-4Pa
电子枪1只，重离子枪1只，蒸发器2只
基片每次装载数量：1片
仪器特色&服务特色
多篇科研论文
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