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精密对准仪
北京理工大学
SUSS公司，SUSS MJB3
北京市
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检测范围

/用于制做具有各种微细图形的光刻胶掩膜,可实现衬底图形的套刻. 特色：本仪器所完成的工艺称为光刻工艺,是光通信.微光机电器件制做中重要的工艺设备.

仪器参数

*光斑面积：3 吋
波长：400 nm
分辩率：1μm
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