可见光成像及像质检测系统
北京理工大学
中国科学院光电技术研究所,自制设备
北京市
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所有仪器

分析仪器

检测范围

此设备主要用于半导体工艺光刻技术中的高分辨光学成像技术

仪器参数

照明系统:照明视场3.5mm×3.5mm,照明均匀性(RMS)优于3%;成像物镜:波像差RMS值优于19nm,PV值优于95nm;准直物镜:波像差RMS值优于33nm,PV值优于165nm。
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