我的订单 会员中心 常见问题 意见反馈 服务商入口

提交需求
首页 > 所有仪器> 加工工艺实验设备 > PECVD100等离子增强化学气相淀积系统
联系平台客服
分享
PECVD100等离子增强化学气相淀积系统(Plasma enhanced chemical vapor deposition system)
重庆大学
FHR Anlagenbau GMBH，PECVD100PECVD100
重庆市
我们目前尚未与重庆大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

仪器推荐

卧式LPCVD系统

检测范围

生长低应力薄膜SiO2、Si3N3及a-Si膜层

仪器参数

loadlock：极限真空< 1x10-3 mbar;抽真空两小时后测得的漏率为3x10-6 mbar/s; 工艺腔室：抽真空两小时极限真空<6x10-6 mbar ;抽真空两小时后测得的漏率为1x10-5 mbar/s; 温控范围80°C - 500 °C，温控精度： +/- 0,5 °C；

仪器特色&服务特色

中国核物理研究院开关掩膜层制备、ICT线模卡掩膜层制备、清华大学介质薄膜材料制备等
猜您需要 查看更多>>
如果找不到合适的仪器，您可以提交您的需求，由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求