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干法刻蚀机(Etching System)
大连理工大学
阿尔卡特，AMS 100SE
辽宁省
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检测范围

能够刻蚀氧化硅，以及以氧化硅或光刻胶为掩膜的硅

仪器参数

具有良好的人机界面，软件功能强大；具有超高刻蚀率和极好的均匀性；可精确地控制深宽比的效果；可实现高深宽比干法
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