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薄膜沉积系统(Thin Film Deposition System)
大连理工大学
Kurt J,Lesker Company，LAB18
辽宁省
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检测范围

能够溅射各种金属和介质材料，也可以进行反应溅射

仪器参数

一次最大可以溅射1片6英寸样品，样品台可以旋转和加热，最高加热温度为800℃。溅射薄膜厚度均匀性优于±5%。
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