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磁控溅射系统功能扩充部件
中山大学
矽碁科技股份有限公司，SIL-200/ITO薄膜均匀性:200nm<±5%
广东省
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仪器参数

ITO薄膜均匀性:200nm<±5%(across 150mm)；Cr薄膜均匀性:200nm<±5%(across 150mm)
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