无掩膜光刻机-测试100仪器共享平台

无掩膜光刻机
所在单位：	中山大学
品牌/型号：	Heidelberg，uPG501
所在地区：	广东省
仪器说明：	我们目前尚未与中山大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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根据绘制的掩膜图形直接曝光掩膜光刻胶

1. 样品最大尺寸：6英寸
2. 曝光光源： LED光源
3. 分辨率： 1微米
4. 最大直写速度：大于或者等于50mm2/min
5. 掩模版设计软件：支持DXF和GDS2文档

国家重点基础研究发展计划（973计划）项目“基于光子轨道角动量（OAM）的新型通信体制研究”，国家重点基础研究发展计划（973计划）项目“微波与光波大功率超宽带高效转换器件研究”

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