聚焦离子束刻蚀系统
中山大学
ZEISS公司,AURIGA/离子束分辨率:1.2±0.3nm
广东省
我们目前尚未与中山大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求,委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试,我们将为您提供以下保障:

检测范围

通过离子束在基底上刻蚀微纳,具有气体辅助刻蚀与沉积功能。同时可对样品进行表面形貌表征。

仪器参数

1)可以沉积Pt、SiO2,
同时可以加速刻蚀有机物;2)离子束分辨率优于5nm,加速电压0-30KV;3)I2、XeF2刻蚀源,Pt、SiO2沉积源。

仪器特色&服务特色

支持973计划OAM项目:无源集成OAM器件研究。国家重点研发计划项目:固态光学微腔与量子体系相互耦合的调控及其量子器件研究。
如果找不到合适的仪器,您可以提交您的需求,由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求