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电子束直写系统
中山大学
VistecLithography B.V.，EBPG-5000plus/EBPG-5000plusES
广东省
我们目前尚未与中山大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

检测范围

利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成曝光图形。用于制备纳米器件的微结构，集成光学器件光栅、光子晶体， 小尺寸光刻掩模板。

仪器参数

1）套刻精度：±15 nm（1mm 主场）@100kV,
±20 nm （1mm 主场）@50kV；2）场拼接精度：20±3nm@1mm*1mm；3）最小线条宽度≤8 nm

仪器特色&服务特色

支持973计划OAM项目：无源集成OAM器件研究。国家重点研发计划项目：固态光学微腔与量子体系相互耦合的调控及其量子器件研究。
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