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高真空磁控溅射沉积功能膜系统设备
华南理工大学
Mantis，QPrep400,QPrep400
广东省
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仪器参数

极限真空5E-8mB；可控制转速0-20转的样品台，可加热衬底800℃并且可以加直流或射频偏压；可以手动操作或者软件控制操作设备；3英寸Si衬底生长SiO2或者Cu，膜厚均匀性在±4%。

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服务热处理室，以及材料科学领域
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