电子束曝光机(E-Beam lithography)
北京大学
RAITH,150-TWO
北京市
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检测范围

Raith150 Two曝光机具有束位置精度高和束电流的稳定性的特点,可以进行高分辨曝光。辅助功能有三维图形曝光和掩模版制作。

仪器参数

Beam energy range:100 V to 30 kV in 10 V steps.
Beam current range:Selectable between approximately 5 pA – 20 nA.
Beam blanker :200 kHz repetition frequency in continuous operation.

仪器特色&服务特色

发表三大检索论文60篇,科研项目50项,教学实验项目数1项,国家级奖项1项
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