多功能超高分辨电子束刻蚀系统-测试100仪器共享平台

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多功能超高分辨电子束刻蚀系统(Multifunctional ultrahigh resolution electron beam lithography)
所在单位：	北京大学
品牌/型号：	RAITH，e-LINE plus
所在地区：	北京市
仪器说明：	我们目前尚未与北京大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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多功能超高分辨电子束刻蚀系统包含电子束光刻，扫描电镜成像，电子束原位诱导沉积和刻蚀，纳米操纵和光谱分析，以及三维光刻等功能。

特征尺度小于10纳米，线间距小于40纳米，样品尺寸4英寸。

发表三大检索论文20篇，科研项目5项

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