检测范围
直流溅射靶250W/2"，强磁直流溅射靶250W/2"，射频溅射靶150W/2"。制备各类单金属薄膜、合金薄膜、磁性薄膜、氧化物薄膜等。服务于各种需要蒸镀薄膜的薄膜研究项目和器件研究项目。
仪器参数
直流溅射靶250W/2"，强磁直流溅射靶250W/2"，射频溅射靶150W/2"。
仪器特色&服务特色
涉及项目约十个，其中包括：
国家重点基础研究发展计划973项目，2012CB932700，“新型高性能半导体纳米线电子器件和量子器件”，起止年月：2012.01-2016.12
国家自然科学基金委重点项目，91221202，“纳米线复合量子结构中的电子纠缠及其器件研究”，起止年月：2013.01-201,杨勇（2007-2012，博士）
庄虔伟（2009-2012，硕士）
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