我的订单 会员中心 常见问题 意见反馈 服务商入口

提交需求
首页 > 所有仪器>  > 磁控离子束溅射双室薄膜制备系统
联系平台客服
分享
磁控离子束溅射双室薄膜制备系统(Magnetronsputteringandionbeamdepositionsystem)
华中科技大学
沈阳科仪，非标定制设备
湖北省
我们目前尚未与华中科技大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

检测范围

开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜

仪器参数

系统暴露大气后5分钟并充干燥氮气开始抽气：离子束溅射室30分钟可达到6.6x10-4Pa；离子束/控溅射室：系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa；1.600w全自动匹配射频电源及匹配器2.数字式500w直流电源3.数字式-200v偏压电源
猜您需要 查看更多>>
如果找不到合适的仪器，您可以提交您的需求，由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求