检测范围
用于投影式步进光刻，光刻精度能达到500纳米，套刻精度能达到150纳米
仪器参数
500纳米的曝光精度，150纳米的套刻精度，能在不同尺寸的外延片上来做光刻，从10mm×10mm尺寸到6英寸整片。其他一些指标包括：5英寸版，版到片上有5倍缩小，版上曝光面积：20cm×20cm所以片上最大的die的尺寸4cm×4cm，曝光功率600mW/cm2，曝光均匀性1.75%，步进的误差0.07微米，等等。
仪器特色&服务特色
已用于单片集成的大范围调谐激光器、高速直调的DFB激光器阵列、高速直调的面发射激光器制作
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