聚焦离子电子双束系统(Focusingionbeam)
华中科技大学
FEI,HeliosNanoLabG3
湖北省
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检测范围

为实验室提供FIB透射电镜样品制备,这一技术的特点是从纳米或微米尺度的试样中直接切取可供透射电镜或高分辨电镜研究的薄膜。试样可以为IC芯片、纳米材料、颗粒或表面改性后的包覆颗粒,对于纤维状试样,既可以切取横切面薄膜也可以切取纵切面薄膜。对含有界面的试样或纳米多

仪器参数

离子源种类:液态Ga离子源;交叉点分辨率:≤2.5nm@30kV(最佳值测量法)≤4.0nm@30kV(平均值统计法),加速电压:最低加速电压0.5kV,最高加速电压30kV,束流强度:1pA至65nA,束流密度:最大值可达60A/cm2,离子源寿命:不低于1000小时;
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