我的订单 会员中心 常见问题 意见反馈 服务商入口

提交需求
首页 > 所有仪器> 其他通用分析仪器 > 反应离子刻蚀机
联系平台客服
分享
反应离子刻蚀机(Reactive lon Etching)
华中科技大学
SENTECHINSTRUMENTSGMBH，ETCHLAB200
湖北省
我们目前尚未与华中科技大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

所有仪器

行业专用仪器

测量/计量仪器

分析仪器

检测范围

Etchlab200的模块化设计，直接装载晶圆，使其对任何加工处理都工艺简单、灵活运用。基本配置下的典型应用有刻蚀电介质膜(SiO2,Si3N4)，半导体(Si)，聚合物和金属材料(Au,Pt,Ti,Ni)。

仪器参数

反应腔298mm直径,AlMgSi0.5材料,铰链连接顶盖，下电极铝制水冷电极,电极直径215毫米,4quot;-8quot;晶圆，可提供小片晶片托架，上电极硬铝镀层，带有淋浴头和中间光学终点探测窗口
猜您需要 查看更多>>
如果找不到合适的仪器，您可以提交您的需求，由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求