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原子层沉积系统(Atomiclayerdeposition)
华中科技大学
芬兰倍耐克公司，TFS200
湖北省
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检测范围

制备多组分的纳米薄层和氧化物薄膜，还可生长Ag,Cu,Pt等金属以及TiN,WN,MoN等金属氮化物。

仪器参数

基片尺寸：6英寸、8英寸；加热温度：25-400℃；Al2O3均匀性：＜2%；前驱体数：12路；兼容性：可兼容100级超净室；

仪器特色&服务特色

高性能石墨烯器件与电路的批量制备与优化（与北京大学合作）（2014年）；高性能二硫化钼晶体管的界面调控与电输运化（2015年）；华为公司石墨烯射频器件研究项目（2016年）；省科技厅高性能二硫化钼晶体管的界面（2016年）
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