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光刻机MASKALIGNER(MaskAligner)
华中科技大学
德国SUSSMicroTecLithography股份有限公司，8486203900
湖北省
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检测范围

该系统可进行1um特征尺寸的晶圆光刻,将应用于光电子、半导体、微纳机械等领域的相关研究中的微纳加工，如光电子器件、半导体器件等的制备及加工。

仪器参数

1曝光强度及均匀性≤3%（2寸范围内）；2分辨率≤0.7um；3对准精度≤+/-0.5um

仪器特色&服务特色

晶体管、相变存储器、阻变存储器、FET、MOS器件和RFID等制备
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