高品质石墨烯设备
深圳大学
AIXTRON LTD,BM PRO 4INCH
广东省
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检测范围

目前国内外生长研究用于说石墨烯和碳纳米管材料的基本设备,尤其是在新型层状二维纳米材料领域,稳定可靠的材料获得是研究的基础。

仪器参数

1.等离子增强和热耦化学气相沉积生长方式兼容,对生长基底具有等离子体预清洁功能;
2.反应腔室有4英寸;
3.温度可达1200℃,升温速率可达300℃/分钟,基底表面温度均匀性5%以内,且生长基底表面温度可以通过红外系统控制或监测;
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